光栅

平面刻线衍射光栅

规格参数

通用参数

光栅基片材料 浮法玻璃
表面光洁度 60-40
尺寸公差 ±0.5mm
厚度公差 ±0.5mm
效率 60%-80%@闪耀波长
有效孔径 90%
损伤阈值 350mJ/cm²@200ns脉冲激光40W/cm²连续激光

产品详情

制作原始或者母光栅的初始步骤是对基底材料的选择,通常为玻璃或者铜。将基底材料抛光至高平整度并对其镀一层很薄的铝膜。刻划平行度和刻线的等距需要漫长的时间进行调整,可能需要花费几天进行设置并在实际刻划之前进行测试。刻划机必须能够在每次刻划后让钻石刀头按精确路线折回,并按预定量对基底进行刻划。刻线的平行度和位移必须精确控制。
对刻划要有一系列的测试,对光栅的效率,刻线外形和杂散光要进行检查。每次测试后,可能需要一个小的机械调整。为了优化刻线外形以达到特定的光学特性,可能需要一周或者更长时间进行重复测试。经过彻底测试后,才能在一块大的基板上刻划原始光栅。原始光栅非常昂贵,所以在复制光栅开发出来之前,光栅只能有限使用。
光探智能提供多种尺寸及刻线数的平面平面刻线衍射光栅(Ruled Diffraction Gratings),如您有任何问题或需求,都可以联系我们,我们将竭诚为您服务。

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